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第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世（第2页）
吉田一郎支持森佳照明等人的意见，抓紧时间研发45nm制程干式光刻机。
去年5月，Nikon研制的NSR-S308F干式光刻机量产，配备尼康公司自研的polano偏振照明系统后，能够满足65nm制程的光刻需求。
SELEtE购买了2台。
“魏总，等dSp-100在市场上发酵一周后，我们再向外公布3360i，7月下旬量产，开始预订。”
按照浸润理论，采用浸润式技术，193nm波长可以穿透纯净水，最高实现22nm的精度，浸润式技术还可以获得更好的景深。
不需要真空或氮气条件，不需要更换掩膜，不需要更换光刻胶。
蔡司公司为2250i设计了新的物镜，方便更换镜头，发明了浸润罩（immersionhood）技术，将一片很小的水面保持在镜头下方，上下接触而不会溢出。
由于光照会影响水的温度，需要保持流水，同时水流控制还要避免旋涡和水泡。
bSEc光刻机研究院研究了杂质的来源，设法将原来的4000个缺陷减少为零。
将镜头和晶圆浸水之前，先用表面活性液体浸泡，减少沾染。
在晶圆的边缘设置密封环（sealring），避免水溢出，消除漩涡，将杂质带走，降低缺陷率。
另一个方法是通过曝光流程的优化，大幅度降低不可复原的缺陷数量。
浸润式技术在曝光时需要将镜头和晶圆曝光区域浸入水中，量测时却需要晶圆上没有水。
双工作台系统不光将量测和曝光两道工序分开，还将干式量测和浸润曝光分开，几乎是为浸润式光刻机量身定做的。
bSEc光刻机自动化研究所先后为2250i和3360i升级了磁悬浮式双工作台系统。
bSEc在研发成功twINScANbNt:2250i后，向中国专利局和世界专利局同时申请了9项技术专利，其中2项核心技术专利。
157nm光波的干式光刻机对环境要求相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些。
由于157nm光波存在吸收效应，不能用水作为浸润介质，需要价格昂贵的氟化钙镜头，导致同制程的157nm光刻机比浸润式光刻机贵50%左右。
“好的，董事长！”
魏建国笑了。
