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第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世（第1页）

6月2日上午，孙健在办公室，从pN（鲲鹏网）首页上看到一则一百多字的新闻（转载GpN）：尼康45nm干式光刻机横空出世！

立马引起了他的眼球，尼康公司今日公开宣布，尼康公司同SELEtE合作，在65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F的基础上，经过一年多的努力，研制成功45nm干式光刻机dSp-100；同时宣布，尼康公司将联合SELEtE、尔必达、东芝、富士通公司，投资2350亿日元（相当于20亿美元），在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。

GcA控股的GpN（地理鲲鹏网）早就进入日本，但没有进入中国；pENG控股的pN没有进入美国和日本等西方国家和地区；GpN和pN在世界各地共有4000多名记者，为了节约成本，共享新闻资源等，2000年1月16日，双方签订了资源共享合作协议，无偿转载对方的新闻报道等。

美西方国家发生的大事，中国等东南亚国家发生的大事，在中国或美国的网民，第一时间就能从pN或GpN上看到。

半导体前沿技术公司研发协会（SELEtE）是1996年3月，由富士通、日立、松下、三菱电机、NEc、冲电气、三洋电机、夏普、索尼、东芝、尼康和佳能等13家半导体公司，每家出资5亿日元成立的半导体技术共同开发公司。

美国成立SEmAtEch，致使日本失去半导体行业第一的位置后，成立SELEtE是日本半导体产业界为了重回全球第一所做的尝试，组织采用分层组织结构，领头推动整个研发进展，领导三大前沿技术的研发：前端工艺，后端工艺，用于65nm和45nm制程工艺的光刻和掩模工艺。

尔必达（ELpIdA）如今是日本唯一一家动态随机存取存储器（dRAm）生产企业，1999年由日立、NEc和三菱电机的dRAm业务整合成立，2004年在东京证券交易所主板上市。

其dRAm业务占据全球市场份额第三，主要供应戴尔、索尼等pc厂商。

前世没有听说过尼康45nm干式光刻机！

全球光刻机的历史进程已经改变！

孙健不仅不担心，反而眼前一亮，bSEc雪藏了一年多的45nm制程的浸润式光刻机twINScANNxt:3360i，终于可以光明正大的面世了。

打电话让魏建国了解详细情况？

“董事长，邓院长说，尼康dSp-100干式光刻机虽然采用尼康公司自研的157nm波长激光器，但配备尼康公司自研的polano偏振照明系统后，能够满足45nm制程的光刻需求，但同我们的3360i相比，他们有两个短时间很难解决的缺陷，一是氟化钙镜头的良品率低，价格昂贵，导致dSp-100的市场价定价会比我们贵50%左右；二是如今没有同45nm制程干式光刻机相匹配的磁悬浮式双工作台系统，工作效率会低15%左右。

虽然尼康公司占据先发优势，但一旦3360i公布于众，英特尔和Amd都不会购买dSp-100。”

魏建国从邓国辉那里得到准确的消息后，向孙健汇报，话语中透着轻松和自信，他们也不担心。

bSEc光刻机研究院从去年4月就已经开始研发32nm制程的浸润式光刻机，今年3月就生产出了试验样机。

去年7月18日，全球第一条65nm半导体生产线在pGcA量产的消息传到尼康公司，上下震动很大，虽然尼康研发成功的65nm制程的干式光刻机NSR-S308F随时可以量产，由于各方面的原因，当时没有国际晶圆厂家愿意订购，力推157nm波长干式光刻机发展方向的顾问吉田一郎召集公司高管商议对策。

现任会长森佳照明坚持沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程干式光刻机，才能一举扭转被动局面，就能继续引领全球光刻机的发展方向；

研究所所长兼副总裁小川郁子和财务副总裁兰布林支持森佳照明的决定。

副总裁诺利克建议公司放弃干式光刻机路线，投资研发浸润式光刻机。

常务副总裁原田弘树建议公司两条腿走路。